대리석 연마 블록 연마 및 광택은 석재 관리 크리스탈 표면 처리의 이전 공정이자 석재 평활판 가공의 마지막 공정입니다. 이는 오늘날 석재 관리에서 가장 중요한 기술 공정 중 하나로, 전통적인 의미의 청소 업체에서 다루는 대리석 세척, 왁싱, 광택과는 다릅니다. 두 공정의 차이점은 다음과 같습니다.

첫째, 본질적인 차이점입니다.

1. 대리석 분쇄 블록연마 결정 표면 처리 및 연마는 석재 결정 표면 처리의 서곡이자 석재 가공에 필수적인 기술 공정입니다. 주요 원리는 무기산, 금속 산화물 및 기타 물질로 합성된 가압 연삭 블록을 사용하여 기계적 연삭 디스크의 압력, 고속 연삭력, 마찰 열 에너지, 그리고 매끄러운 대리석 표면에 대한 물의 물리화학적 효과와 협력하는 것입니다. 이를 통해 대리석 표면에 새롭고 밝은 결정층이 형성됩니다. 이 결정층은 매우 밝고 선명한 광도를 가지며, 광도는 90~100도에 달할 수 있습니다. 이 결정층은 석재 표면층(1~2mm 두께)의 변형된 복합 결정층입니다. 결정 표면 처리 연마는 연삭 블록 연마의 물리적 확장으로, 저속 석재 관리 기계와 섬유 패드로 연삭한 후, 연삭 블록을 분말 또는 분말과 물의 혼합물로 만들고 소량의 수지를 첨가하여 연마하는 공정입니다.

2. 대리석 세척은 대리석 왁싱과 폴리싱의 서곡입니다. 대리석 세척, 왁싱, 폴리싱은 1980년대 초와 1990년대 초에 널리 사용되었던 대리석 세척 및 유지 관리 방법이었지만, 현재는 그 시장성과 중요성을 잃었습니다. 이 작업의 핵심은 새로 깔린 석재(광택 보드)에 아크릴 수지와 PE 에멀젼 폴리머를 얇게 코팅하는 것인데, 이를 흔히 물왁스 또는 바닥왁스라고 부릅니다. 그런 다음 고속 저압 폴리싱 머신을 사용하여 섬유 패드와 함께 석재 표면을 문질러 수지 코팅을 더욱 밝게 만듭니다. 이후 제품 업데이트로 특수 경량 왁스, 논스로우 왁스 등이 출시되었습니다. 이 코팅은 나무 바닥에 바르는 오일 바니시와 유사합니다.

3. 대리석 관리 크리스털 표면 처리 전, 연마 블록 연마 공정은 석재 표면과 화학 물질 간의 물리적, 화학적 상호작용 과정입니다. 형성된 석재 표면 크리스털층과 바닥층은 완전히 일체화되어 분리층이 존재하지 않습니다.

4. 대리석을 세척하고 왁스칠하고 광택을 낸 후, 표면의 왁스 층은 돌 표면에 부착된 수지 필름 층입니다. 돌 자체와는 화학 반응이 일어나지 않고 물리적으로 코팅됩니다. 이 왁스 필름 층은 칼날이 달린 삽을 사용하여 돌 표면에서 제거할 수 있습니다.

둘째, 외관의 차이입니다.

1. 대리석 연마 블록의 연마 및 광택 작업은 크리스털 표면의 관리에 있어 필수적인 과정입니다. 연마 및 광택 작업 후에는 높은 광도, 고해상도, 내마모성, 내마모성을 갖추게 되며, 긁힘에 강합니다. 이는 석재 사용 기능의 진정한 구현이자 가치 확장입니다.

2. 왁싱과 연마 후 돌의 광도가 낮고, 광도가 불분명하며, 매우 흐릿하고, 내마모성이 없고, 방수성이 없으며, 긁힘, 산화 및 황변되기 쉬워 돌의 자연스러운 이미지가 저하됩니다.

셋째, 확장과 운영의 차이입니다.

1. 석재 연마 블록의 연마된 결정층과 결정층을 지속적으로 관리(일반적으로 결정 표면 관리라고 함)하면 기공이 완전히 닫히지 않아 석재가 내외부로 통기성을 유지하고 질병에 쉽게 걸리지 않습니다. 동시에 일정한 방수 및 방오 효과를 제공합니다.

2. 대리석에 왁스를 바르고 광택을 낸 후, 돌의 기공은 완전히 닫히고 돌은 안팎으로 호흡할 수 없게 되어 돌에 손상이 생기기 쉽습니다.

3. 연마된 크리스털층과 석재 분쇄 블록의 크리스털층을 지속적으로 관리하는 것은 조작이 간편합니다. 바닥을 청소하기 위해 세척제가 필요하지 않습니다. 언제든지 연마 및 관리가 가능하며, 현장에서 작업할 수 있습니다. 석재 표면의 색상에 새로운 대비가 발생하지 않습니다.